DIN 50443-2-1994 半导体工艺用材料的检验.用X射线局部剖析法验证半导体单晶中的晶体缺陷和不均匀性.III-V-半导体化合物

作者:标准资料网 时间:2024-04-29 05:47:04  浏览:9272   来源:标准资料网

【英文标准名称】:Testingofmaterialsforsemiconductortechnology;recognitionofdefectsandinhomogeneitiesinsemiconductorsinglecrystalsbyX-raytopography;III-V-semiconductorcompounds
【原文标准名称】:半导体工艺用材料的检验.用X射线局部剖析法验证半导体单晶中的晶体缺陷和不均匀性.III-V-半导体化合物
【标准号】:DIN50443-2-1994
【标准状态】:作废
【国别】:德国
【发布日期】:1994-06
【实施或试行日期】:
【发布单位】:德国标准化学会(DIN)
【起草单位】:
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:验证;晶体缺陷;半导体;单晶;不均匀性;半导体合成体;X射线局部描述;半导体工艺;材料;试验;材料试验
【英文主题词】:semiconductors;materialstesting;singlecrystal;inhomogen;semiconductorcompounds;x-raytopography;verification;crystaldefects;materials;semiconductortechnology;testing
【摘要】:
【中国标准分类号】:H82
【国际标准分类号】:29_040_30
【页数】:7P;A4
【正文语种】:德语